檢索結果:共4筆資料 檢索策略: "周賢鎧".cadvisor (精準) and year="98"
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本研究使用Cu和SiO2靶材以共濺鍍法製備50nm厚之Cu-SiO2薄膜,Cu-SiO2薄膜之Cu/(Cu+Si)原子比為19.9%,經由XPS和TEM之結果可以確認中間層的型態為大小約為4~6nm…
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本研究探討製備p-Cu2O/n-ZnO及p-Cu2O/n-AZO異質接面型太陽能電池,首先製備p-Cu2O主要分為兩種方式,分別為RF氧氣電漿與微波電漿;其次n-ZnO與n-AZO主要以濺鍍法製…
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本研究中選用金屬類材料Al、GL、TiZn-P、SUS304、SUS304CF與非金屬類材料PVDF、Glass、Si wafer合計8種樣品,將添加不同比例的TS-720疏水性二氧化矽奈米粉末之I…
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本研究目的在開發高阻值(≧3 kΩ)以及低TCR值(±25 ppm/℃)之薄膜電阻元件。實驗材料系統可分為氮化鉭(TaN)、共濺鍍氮化鉭與銅複合膜(TaN/Cu)以及氮化氧鈦(TiNO),三種材料系…